產(chǎn)品信息

• 薄膜厚度測量所需的功能集成在頭部。
• 用顯微光譜法測量高精度優(yōu)良反射率（多層膜厚度、光學(xué)常數(shù)）
• 1點(diǎn)1秒內(nèi)的高速測量
• 在顯微條件下（紫外至近紅外）實(shí)現(xiàn)寬測量波長范圍的光學(xué)系統(tǒng)
• 區(qū)域傳感器的**機(jī)制
• 簡單的分析向?qū)В词故浅鯇W(xué)者也可以分析光學(xué)常數(shù)
• 配備宏功能，可讓您自定義測量順序
• 可以分析復(fù)雜的光學(xué)常數(shù)（多點(diǎn)分析法）
• 兼容 300mm 平臺(tái)
• 支持各種自定義

可以根據(jù)樣品的形狀和位置輕松定制測量順序。

* 以上規(guī)格為自動(dòng) XY 載物臺(tái)。

* 1 膜厚范圍換算為SiO ₂。

* 2 請聯(lián)系我們獲取 300 mm 載物臺(tái)。

* AC/DC電源單元

自動(dòng)XY平臺(tái)類型

內(nèi)置頭型

• 優(yōu)良反射率測量
• 膜厚分析
• 光學(xué)常數(shù)分析（n：折射率，k：消光系數(shù)）

測量示例

半導(dǎo)體晶體管通過控制電流的通電狀態(tài)來傳輸信號(hào)，但是為了防止電流泄漏和另一個(gè)晶體管的電流通過任意路徑而在晶體管之間進(jìn)行絕緣，并嵌入了絕緣膜。SiO ₂ (二氧化硅)和SiN(氮化硅)用于絕緣膜。SiO ₂用作絕緣膜，SiN用作具有比SiO ₂更高的介電常數(shù)的絕緣膜，或者在用CMP去除不需要的SiO ₂時(shí)用作阻擋層，然后SiN也被去除。這樣，為了作為絕緣膜的性能和**的工藝控制，有必要測量這些膜厚度。

液晶顯示器通常具有如右圖所示的結(jié)構(gòu)。CF 在一個(gè)像素中具有 RGB，是一種非常高清的微小圖案。主流的CF成膜方法是在玻璃的整個(gè)表面涂上顏料基色阻，用光刻法曝光，顯影，每個(gè)RGB只留下構(gòu)圖部分。這時(shí)，如果色阻的厚度不恒定，作為彩色濾光片，可能會(huì)導(dǎo)致圖案變形和色調(diào)變化，因此控制膜厚值很重要。

近年來，使用具有各種功能的高性能薄膜的產(chǎn)品已普及，根據(jù)用途，有時(shí)在薄膜表面需要具有耐磨性、耐沖擊性、耐熱性和耐化學(xué)性等特性的保護(hù)膜。我有。通常形成硬涂層（HC）膜作為保護(hù)膜層，但根據(jù) HC 膜的厚度，它可能無法起到保護(hù)膜的作用，膜中可能會(huì)發(fā)生翹曲，或者可能會(huì)導(dǎo)致不均勻或外觀變形，因此需要控制HC層的膜厚值。

ITO（氧化銦錫）是用于液晶顯示器的透明電極材料，由于成膜后的退火處理（熱處理），其導(dǎo)電性和顏色得到改善。此時(shí)，氧態(tài)和結(jié)晶度也發(fā)生變化，但這種變化可能相對(duì)于薄膜的厚度呈階梯式變化，不能視為具有光學(xué)均勻組成的單層薄膜。對(duì)于這種 ITO，我們將介紹一個(gè)使用傾斜模型從上界面和下界面的 nk 測量傾斜度的示例。

如果樣品表面有粗糙度，將表面粗糙度建模為“粗糙層”，其中大氣（空氣）和膜厚材料以 1:1 的比例混合，并分析粗糙度和膜厚。 . 在這里，我們描述了一個(gè)測量表面粗糙度為幾納米的 SiN（氮化硅）的例子。

干涉濾光片通過形成具有受控膜厚和nk的膜，可以在指定波長范圍內(nèi)具有任意反射率和透射率。其中，精度特別高的膜是通過將高折射率層和低折射率層作為一對(duì)(組)重復(fù)多次成膜而形成的。以下是使用超晶格模型測量和分析此類樣品的示例。

有機(jī)EL材料易受氧氣和水分的影響，在正常大氣下可能會(huì)發(fā)生改變或損壞。因此，成膜后立即用玻璃密封。以下是在密封時(shí)通過玻璃測量薄膜厚度的示例。中間的玻璃和空氣層采用非干涉層模型。

材料nk需要通過*小二乘法擬合來分析膜厚值(d)。如果 nk 未知，則將 d 和 nk 都解析為可變參數(shù)。然而，在d為100nm以下的超薄膜的情況下，d和nk不能分離，這可能會(huì)降低精度并且無法獲得準(zhǔn)確的d。在這種情況下，測量具有不同d的多個(gè)樣品，并且假設(shè)nk相同進(jìn)行同時(shí)分析（多點(diǎn)相同分析）。這使得可以準(zhǔn)確地獲得nk和d。

在基板表面不是鏡面的粗糙度大的樣品的情況下，測量的光會(huì)因散射而減少，測量的反射率會(huì)低于實(shí)際值。可以通過使用界面系數(shù)考慮基板表面的反射率的降低來測量基板上的薄膜的膜厚值。作為一個(gè)例子，我們將描述一個(gè)測量發(fā)絲狀鋁基板上的樹脂膜的膜厚的例子。

DLC（類金剛石碳）是一種無定形碳基材料。它具有高硬度、低摩擦系數(shù)、耐磨性、電絕緣性、高阻隔性、表面改性和提高與其他材料的親和性等特點(diǎn)，可用于各種應(yīng)用。近年來，根據(jù)各種應(yīng)用，對(duì)膜厚測量的需求不斷增加。
DLC厚度測量通常是通過準(zhǔn)備監(jiān)視器樣品并用電子顯微鏡觀察其橫截面來進(jìn)行的，但使用大冢電子使用的光學(xué)干涉式薄膜厚度計(jì)，可以進(jìn)行無損和高速測量。通過改變測量波長范圍，可以測量從超薄膜到超厚薄膜的廣泛膜厚。
通過采用獨(dú)特的顯微鏡光學(xué)系統(tǒng)，可以實(shí)際測量具有形狀的樣品，而不是監(jiān)控樣品。另外，在監(jiān)視器上確認(rèn)測量位置的同時(shí)進(jìn)行測量，有助于分析異常原因。
我們將準(zhǔn)備一個(gè)支持各種形狀的定制傾斜/旋轉(zhuǎn)平臺(tái)。可以測量實(shí)際樣品上的任意數(shù)量的點(diǎn)。
在不知道材料的光學(xué)常數(shù)（nk）的情況下無法進(jìn)行**的膜厚測量的問題是光學(xué)干涉膜厚系統(tǒng)的弱點(diǎn)，這是使用原始分析方法預(yù)先準(zhǔn)備的厚度問題：多點(diǎn)分析 通過同時(shí)分析多個(gè)不同的樣本，可以獲得與過去相比具有極高準(zhǔn)確度的nk。
通過使用 NIST（美國國家標(biāo)準(zhǔn)與技術(shù)研究院）測試的標(biāo)準(zhǔn)樣品進(jìn)行校準(zhǔn)，可確保可追溯性。

○ 齒輪 ○ 軸

■ DLC膜厚測量示例