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產(chǎn)品中心
產(chǎn)品詳情

  • 產(chǎn)品名稱：日本DNK科研曝光機MA-5301ML光刻機

  • 產(chǎn)品型號： MA-5301ML
  • 產(chǎn)品廠商：DNK 科研
  • 產(chǎn)品價格：0
  • 折扣價格：0
  • 產(chǎn)品文檔：
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簡單介紹：
主要特長 搭載本公司開創(chuàng)的鏡面光學系統(tǒng)爆光燈房（LAMP HOUSE）。從而實現(xiàn)了照射面內(nèi)的均勻性以及高照度。 采用本公司開創(chuàng)的同軸對位方式和高速圖像處理技術, 從而實現(xiàn)了高精度對位。還支持IR方式和背面方式。 通過本公司開創(chuàng)的光學式間隙傳感器，可在非接觸狀態(tài)下高速、精的設定掩膜和基板間的近接間隙。 搭載有掩膜更換機。*多可自動更換20張掩膜。 *多可搭載3臺片倉（Load port）。
詳情介紹：

光刻機介紹

曝光裝置  MA-1200 基板追大尺寸 200 x 200mm ?4″ ～ ?6″ 

光源 超高壓水銀燈 ：500W or 1kW

曝光裝置 MA-1400  基板追大尺寸400 x 400mm

光源 超高壓水銀燈 ：2kW or 3.5kW

LED,LN曝光裝置MA-4000 圓晶尺寸?2～4″或者?4～6″

光源 超高壓汞燈：500W 或 1kW

?200mm/?150 mm 對應曝光裝置MA-4301M   材料SI 玻璃， 對齊精度自動對齊：+/- 1 μm（
峰值搜索）

?300mm對應曝光裝置MA-5301ML  光源超高壓汞燈：3.5kW  ?200mm規(guī)格也可對應

マスクレス露光裝置MX-1201 曝光掃描速度43.94mm/s  有效曝光區(qū)域200 x 200 追大曝光量（※3）245/70/245+70
マスクレス露光裝置MX-1201E  曝光掃描速度22.5mm/s  有效曝光區(qū)域200 x 200 追大曝光量（※3）460/70135

マスクレス露光裝置MX-1205  曝光掃描速度9/4.5mm/s  有效曝光區(qū)域100 x 100 追大曝光量（※3）100/50

主要規(guī)格

MA-5301ML
Wafer尺寸 ?300ｍｍ
對位 非接觸預對位～自動對位
光源 超高壓水銀燈：3.5kW
本體尺寸 W 2450 × D 2400 × H 2300 mm

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