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    • 產(chǎn)品詳情

    • 產(chǎn)品名稱：日本DNK科研曝光機(jī)MA-1200光刻機(jī)

    • 產(chǎn)品型號(hào)： MA-1200
    • 產(chǎn)品廠商：DNK 科研
    • 產(chǎn)品價(jià)格：0
    • 折扣價(jià)格：0
    • 產(chǎn)品文檔：
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    簡(jiǎn)單介紹：
    產(chǎn)品信息實(shí)驗(yàn)?研究用曝光裝置 簡(jiǎn)練設(shè)計(jì)的手動(dòng)式整面單次曝光裝置。 主要特長(zhǎng) 對(duì)應(yīng)玻璃、Wafer、膠片等基材的實(shí)驗(yàn)研究用手動(dòng)整面單次曝光機(jī)。也適合小批量生產(chǎn)。 可選擇接觸曝光(軟接觸、硬接觸)和近接曝光。 對(duì)應(yīng)*大尺寸為500mm×500mm的基板。根據(jù)用途和基板尺寸,配置有*佳組合的光學(xué)系統(tǒng)。其中包括:超高壓水銀燈(500W?1kW?2kW?3.5kW)、各種光學(xué)鏡、特殊鏡頭、聚光鏡等。
    詳情介紹：

    光刻機(jī)介紹

    曝光裝置  MA-1200 基板追大尺寸 200 x 200mm ?4″ ～ ?6″ 

    光源 超高壓水銀燈 ：500W or 1kW

    曝光裝置 MA-1400  基板追大尺寸400 x 400mm

    光源 超高壓水銀燈 ：2kW or 3.5kW

    LED,LN曝光裝置MA-4000 圓晶尺寸?2～4″或者?4～6″

    光源 超高壓汞燈：500W 或 1kW

    ?200mm/?150 mm 對(duì)應(yīng)曝光裝置MA-4301M   材料SI 玻璃， 對(duì)齊精度自動(dòng)對(duì)齊：+/- 1 μm（
    峰值搜索）

    ?300mm對(duì)應(yīng)曝光裝置MA-5301ML  光源超高壓汞燈：3.5kW  ?200mm規(guī)格也可對(duì)應(yīng)

    マスクレス露光裝置MX-1201 曝光掃描速度43.94mm/s  有效曝光區(qū)域200 x 200 追大曝光量（※3）245/70/245+70
    マスクレス露光裝置MX-1201E  曝光掃描速度22.5mm/s  有效曝光區(qū)域200 x 200 追大曝光量（※3）460/70135

    マスクレス露光裝置MX-1205  曝光掃描速度9/4.5mm/s  有效曝光區(qū)域100 x 100 追大曝光量（※3）100/50

    主要規(guī)格

    MA-1200、MA-1400

      MA-1200 MA-1400
    基板尺寸 追大 200 x 200mm ?4″ ～ ?6″ 追大 400 x 400mm
    光源 超高壓水銀燈 ：500W or 1kW 超高壓水銀燈 ：2kW or 3.5kW
    外觀尺寸及重量 本體尺寸 W1240 x D1100 x H1725 mm W1440 x D1590 x H1882 mm
    本體重量 400kg 400kg(包含無塵機(jī)房)
    光源重量 － 250kg
    選購(gòu)項(xiàng) 無塵機(jī)房、背面對(duì)位、硬接觸(真空密著式)、自動(dòng)對(duì)位、對(duì)應(yīng)破碎基板等特殊尺寸(需商洽)。

    ※基板尺寸和水銀燈瓦數(shù)及特殊規(guī)格可商洽



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