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產品詳情

  • 產品名稱：近接曝光裝置MA-5111ML 日本DNK蘇州銷售

  • 產品型號： MA-5111MLL
  • 產品廠商：DNK 科研
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簡單介紹：
主要特長 能夠進行節(jié)拍時間約20秒(標準規(guī)格機，對位容許值設定為0.5μm時。不含曝光時間。)的高速曝光處理。 利用直讀式間隙傳感器與獨自的控制系統(tǒng),能夠高速度和高精度地設定掩膜與基板間的近接間隙 。 可配置嚴格控制處理部位溫度環(huán)境的溫控機房。為了防止因熱而引起的基板伸縮,還可選用基板臺溫度調控系統(tǒng)。 可選擇配置基板臺溫度控制系統(tǒng)及掩膜冷卻系統(tǒng)，以防止掩膜及玻璃基板因溫度差而引起的伸縮。(
詳情介紹：

主要規(guī)格

  MA-5501ML MA-5701ML MA-5111ML
基板尺寸 370 x 470mm 550 x 650mm 730 x 920mm
對位 非接觸預對位～自動對位
間隙 擁有傳感性能
光源 超高壓水銀燈：2kW or 3.5kW or 5kW 超高壓水銀燈：10kW 超高壓水銀燈：18kW
外觀尺寸及重量 本體尺寸 W2400 x D2480 x H2290mm
(另有控制箱、局部空調、冷水機) 		W3600 x D3870 x H2500mm
(另有控制箱、局部空調、冷水機) 		W7450 x D5000 x H3600mm
(另有控制箱、局部空調、冷水機)
本體重量 1500kg 1900kg 2000kg
光源重量 500kg 1100kg 3500kg
無塵機房重量 250kg 300kg
選購項 掩膜冷卻、基板臺溫度調節(jié)、溫控機房、特殊對位照明
用途 觸摸屏、彩色濾光片、有機EL、C－STN、電子紙等

※基板尺寸和水銀燈瓦數(shù)及特殊規(guī)格可商洽

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