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SEN特殊光源紫外線表面清洗的原理
日期：2025-04-10 23:18
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摘要：
SEN特殊光源紫外線表面清洗是近年來新興的清洗方法。紫外線表面清洗法不同于原有清洗法，沒有污水，污氣產(chǎn)生。是高能環(huán)保型清洗**方法。廣泛運(yùn)用于LCD,PCB，點(diǎn)子，印刷，塑膠，玻璃，涂裝等領(lǐng)域。
紫外線清洗是是利用有機(jī)化合物的光敏氧化作用達(dá)到去除附著在材料表面的有機(jī)物質(zhì)。經(jīng)過廣清洗后的材料表面可以達(dá)到高清潔度。
其主要原理為紫外線燈發(fā)出的 185nm波長和254nm波長具有很高的能量，高于大多數(shù)有機(jī)物的結(jié)合能量。由于大多數(shù)碳?xì)浠衔飳?duì)185nm波長的紫外線具有較強(qiáng)的吸收能力，并且可以在吸收185nm波長后分解成例子，流利態(tài)院子，受激分子和中子等，這就是光敏作用?？諝庵械难醴肿釉谖樟?85nm波長的紫外光后，會(huì)產(chǎn)生臭氧和氧氣，臭氧對(duì)254nm波長具有很強(qiáng)的吸收性，臭氧有可以分解為氧原子和氧氣。氧原子具有極強(qiáng)的氧化性，可以將碳?xì)浠湘I切斷，生成水，二氧化碳等易揮發(fā)氣體，從被照射物表面飄逸出，徹底**物體表面的污染物。這就是紫外線清洗的原理。
清洗法有干洗和濕洗兩種。干洗有UV臭氧清洗，等離子清洗，離子清洗等。濕洗有水洗，堿清洗，酸清洗，液體噴射清洗等。我們?nèi)粘Ｋ煜さ臐袷角逑从锌梢郧逑吹糨^大范圍污染的優(yōu)點(diǎn)。但是也會(huì)有清洗不掉的污染。同時(shí)由于清洗的溶劑會(huì)在被清洗物表面殘留，因此對(duì)于高精密世界來說也是個(gè)污染。
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