社名：株式會社天谷製作所?。ˋMAYA CO.,LTD.）

所在地：越谷工場：〒343-0822 埼玉県越谷市西方3149-1
福生工場：〒197-0003 東京都福生市熊川1598
臺灣事務所：臺灣 臺北市松山區(qū)復興北路369號 4F

主事業(yè)：半導體、太陽能電池制造設備等的制造和銷售，以及此類設備的售后服務

主要產(chǎn)品：常壓CVD設備、光掩模清洗設備等

近年來，物聯(lián)網(wǎng)的發(fā)展非常顯著，我們已經(jīng)能夠享受到無處不在的便捷服務。 該技術的核心是感知、獲取、處理和分析大量數(shù)據(jù)的技術，為此，有必要加速引入傳感器、人工智能和下一代高速通信等新技術**和技術，并且需要各種各樣的半導體器件來支持這一點。

自1970年開始開發(fā)和銷售常壓CVD設備以來，我們?yōu)榘雽w制造和研發(fā)工藝的質(zhì)量改進和生產(chǎn)率提高做出了貢獻。 2010年，我們將這項技術擴展到太陽能電池，并作為常壓CVD技術領域的專業(yè)人士繼續(xù)接受挑戰(zhàn)。

2019年，作為渡邊商工集團業(yè)務重組的一部分，我們接管了Tomco株式會社的設備業(yè)務，并接管了光掩模清潔設備的制造和銷售業(yè)務。
未來，作為常壓CVD設備行業(yè)的利基***，我們將繼續(xù)提供有助于提高客戶制造和研發(fā)過程的質(zhì)量和生產(chǎn)率的設備和服務，并將努力開發(fā)，制造和銷售光掩模清潔設備等，從而通過半導體業(yè)務的發(fā)展為建設繁榮舒適的社會做出貢獻。

常壓CVD設備

<產(chǎn)品功能>

• 適用于半導體制造和太陽能電池制造等各種應用
• 從小批量生產(chǎn)到大批量生產(chǎn)
• 形成各種薄膜類型，如SiO 2，BPSG，BSG，PSG等。
• 通過使用碳化硅托盤防止重金屬污染
• 可從低溫 （200°C） 到中溫 （500°C） 進行廣泛的薄膜沉積

半導體制造設備

A200V單晶圓常壓CVD裝置    

特征

• 在這種方法中，晶圓沉積表面被上卡盤夾住，晶圓朝向底部，工藝氣體從底部的分散頭吹出形成薄膜。 卡盤提高了晶圓內(nèi)溫度均勻性，并提供出色的厚度均勻性，同時防止氣體包圍晶圓背面，防止背面沉積并防止顆粒粘附在晶圓上并進入腔室。
• 設備尺寸已盡可能緊湊，以*大程度地減少占用空間。
• 使用封閉腔室可消除氣體泄漏并提高操作員的**性。

  AMAX800V8英寸連續(xù)常壓CVD設備量產(chǎn)

• 8英寸 每小時 100 張的高吞吐量
• 使用SiC托盤的重金屬污染對策和長期穩(wěn)定的工藝
• 提高可維護性

AMAX120012“ 連續(xù)常壓CVD機用于批量生產(chǎn)        

• 12 英寸 每小時 51 張的吞吐量
• 采用SiC托盤防止重金屬污染的對策

 A6300S用于小直徑晶圓連續(xù)生產(chǎn)的常壓CVD設備

• 6 英寸 吞吐量為每小時 120 張
• 采用SiC托盤防止重金屬污染的對策

定制設備

D501間歇式常壓CVD機

太陽能電池設備

AMAX1000S125mm/156mm太陽能電池量產(chǎn)連續(xù)常壓CVD設備

• 156 毫米方形 1500 張/小時吞吐量
• 采用SiC托盤防止重金屬污染的對策，以及通過改善托盤支架防止背面環(huán)繞的措施

特征

• 可以使用滿足太陽能電池生產(chǎn)需求的超批量生產(chǎn)設備運輸156mm x 156mm方形基板和125mm x 125mm方形基板。
• 我們開發(fā)了可實現(xiàn)批量生產(chǎn)的專用分散頭，以及實現(xiàn)超高速輸送的雙臂輸送機構。 此外，還增加了燈管加熱機構，以實現(xiàn)超高速和晶圓溫度均勻性。
• 我們開發(fā)了一種特殊的晶圓支架，用于高效加熱太陽能電池的薄晶圓。
• 卸料器部分使用多級Bernui卡盤來分離晶圓和托盤，并且還具有冷卻功能。

玻璃基板沉積設備

用于剛性和柔性設備（如FPD）的常壓CVD設備

• 低溫（150~300°C）處理
• 高質(zhì)量 SiO2 成膜低應力
  、等離子體損傷、小顆粒
• 占地面積小，降低了安裝和維護成本
  ，無需真空或等離子處理
• 低價

光掩模清洗設備.

• 清潔溶液高速擴散到清潔表面
• 快速消除異物和反應產(chǎn)物
• 無水痕干燥

特征