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    日本MIKASA株式會(huì)社中國(guó)代理

    日期：2025-04-04 04:42
    瀏覽次數(shù)：923
    摘要：日本MIKASA株式會(huì)社中國(guó)代理：MIKASA光刻機(jī)．旋轉(zhuǎn)塗佈機(jī)，真空泵

    日本MIKASA株式會(huì)社中國(guó)代理：MIKASA光刻機(jī)．旋轉(zhuǎn)塗佈機(jī)，真空泵日本MIKASA株式會(huì)社中國(guó)代理：MIKASA光刻機(jī)．旋轉(zhuǎn)塗佈機(jī)，真空泵日本MIKASA株式會(huì)社中國(guó)代理：MIKASA光刻機(jī)．旋轉(zhuǎn)塗佈機(jī)，真空泵日本MIKASA株式會(huì)社中國(guó)代理：MIKASA光刻機(jī)．旋轉(zhuǎn)塗佈機(jī)，真空泵

    半導(dǎo)體制造工序中的 Mikasa 半導(dǎo)體設(shè)備
    晶圓
    洗滌
    **晶圓表面的臟污及
    各種金屬離子
    成膜
    在高溫?cái)U(kuò)散爐中，形成
    表面氧化膜
    電路圖案設(shè)計(jì)
    運(yùn)用 CAD 制作布局、布線
    設(shè)計(jì)圖。
    制作光掩膜
    將電路圖案沖印到中間掩
    模上（原版照片）
    光刻膠涂布
    將光刻膠（感光材料）涂抹到晶
    圓表面，形成厚度均一的薄膜。
    旋轉(zhuǎn)涂膜儀（P4~P11）
    （密閉型）
    （密閉型）
    滴液裝置 可選組件
    吸盤(pán)
    曝光
    將光掩膜與晶圓重合，復(fù)制電路
    圖案。
    光刻機(jī)（P13~P15）
    可選組件
    顯影
    去除曝光部位（正膠）的光刻膠。
    顯影裝置（P17、18）
    蝕刻
    通過(guò)腐蝕氧化膜來(lái)蝕刻電路。
    蝕刻裝置（P19）
    離子注入/濺射
    向晶圓注入離子（混雜物）
    后，形成半導(dǎo)體。為了形成
    電極布線，需蒸鍍晶圓表面
    的鋁粉，使其成為薄膜。
    品質(zhì)檢查
    完成


    日本MIKASA旋轉(zhuǎn)涂膜儀SpinCoater、

    光刻膠涂布/

    將光刻膠（感光材料）涂抹到晶

    圓表面，形成厚度均一的薄膜。





    旋轉(zhuǎn)涂膜儀（P4~P11）
    滴液裝置 可選組件
    吸盤(pán)

    ● MS-B100/ MS-B150
    ● MS-B200
    ● MS-B300
    ● MS-B200（密閉型）
    ● MS-B300（密閉型）



    日本MIKASA曝光，將光掩膜與晶圓重合，復(fù)制電路圖案。


    日本MIKASA光刻機(jī)（P13~P15）

    ● MA-10
    ● MA-20
    ● MA-60F
    ● M-2LF

    ● M-1S

    可選組件


    日本MIKASA顯影、蝕刻裝置DeveloperEtching


    去除曝光部位（正膠）的光刻膠。


    ● AD-1200
    ● AD-3000
    ●PD-1000



    日本MIKASA蝕刻裝置

    蝕刻裝置（P19）


    ●ED-1200
    ●ED-3000


    日本MIKASA米卡薩半導(dǎo)體制造用小型裝置：

    備齊光刻膠涂布、曝光、顯影、蝕刻等半導(dǎo)體制造前段工序所需要的裝置后，提供一站式服務(wù)。另外，為旋轉(zhuǎn)涂膜儀的所有機(jī)型準(zhǔn)備了替代用機(jī)，可在發(fā)生故障時(shí)盡早應(yīng)對(duì)，且在銷(xiāo)售后提供快捷周到的售后服務(wù)。針對(duì)研究過(guò)程中所發(fā)生的一系列問(wèn)題，也可在現(xiàn)場(chǎng)提出解決建議。與客戶(hù)共同探討在哪個(gè)工序出現(xiàn)了問(wèn)題、應(yīng)如何改進(jìn)等等，從而得出解決建議。Mikasa 作為一個(gè)可在半導(dǎo)體方面進(jìn)行共同商談的咨詢(xún)顧問(wèn)，不僅銷(xiāo)售設(shè)備，而是為客戶(hù)半導(dǎo)體制造的整體工藝流程提供支持。




    日本MIKASA株式會(huì)社


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