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紫外可見光光度計(jì)
產(chǎn)品詳情
簡單介紹:
除了可以進(jìn)行高精度薄膜分析的橢圓偏振光譜儀之外,我們還通過實(shí)現(xiàn)自動(dòng)可變測(cè)量機(jī)制來支持所有類型的薄膜。除了常規(guī)的旋轉(zhuǎn)光子檢測(cè)器方法之外,通過為延遲板提供自動(dòng)連接/分離機(jī)制,還提高了測(cè)量精度。
詳情介紹:
特殊長度
- 可以在紫外可見光(300-800 nm)波長范圍內(nèi)測(cè)量橢偏參數(shù)。
- 可以進(jìn)行納米級(jí)的多層薄膜厚度分析
- 通過多通道光譜儀可快速測(cè)量橢圓偏振光,可測(cè)量400通道或更多通道
- 通過可變反射角測(cè)量支持對(duì)薄膜的詳細(xì)分析
- 通過創(chuàng)建光學(xué)常數(shù)數(shù)據(jù)庫并添加配方注冊(cè)功能來提高可操作性。
測(cè)量項(xiàng)目
- 橢偏參數(shù)(tanψ,cosΔ)測(cè)量
- 光學(xué)常數(shù)(n:折射率,k:消光系數(shù))分析
- 膜厚分析
測(cè)量目標(biāo)
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半導(dǎo)體晶片
柵極氧化物薄膜,氮化物膜
SiO 2,Si x O y,SiN,SiON,SiN x,Al 2 O 3,SiN x O y,多晶硅,ZnSe,BPSG,TiN的
光學(xué)常數(shù)(波長色散)抵抗 -
化合物半導(dǎo)體
Al x Ga (1-x)作為多層膜,非晶硅 -
FPD
取向膜 -
各種新材料
DLC(類金剛石),超導(dǎo)薄膜,磁頭薄膜 -
光學(xué)薄膜
TiO 2,SiO 2,減反射膜 -
在每個(gè)波長下的光刻場(chǎng)n,k評(píng)估,例如g線(436 nm),h線(405 nm),i線(365 nm)
- 產(chǎn)品信息
- 原則
- 規(guī)格
- 測(cè)量例

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